第九三八章 提案（2/2）

国内光刻机等半导体设备的研发和生产处于半停滞状态，技术水平与当今世界光刻机龙头企业尼康公司相差十年以上。

六一年，成立三年的GCA（美国地球物理公司）造出了世界第一台接触式光刻机。

七十年代，尼康公司和佳能公司开始进入这个领域，作为光学行业的顶级巨鳄，相机里的一块CMOS感光元件，技术难度都比当时的光刻机不知道高多少倍？如鱼得水！

七十年代，Kasper仪器公司首先推出了接触式对齐机台并领先了几年，Cobilt公司做出了自动生产线，但接触式机台后来被接近式机台所淘汰。

七三年，拿到美国军方投资的P＆E公司推出了投影式光刻系统，搭配正性光刻胶非常好用而且良率颇高，因此迅速占领了市场。

七八年，GCA推出了世界上第一台商用步进光刻机DSW4800，该机器使用G线汞灯和蔡司光学元件，以10:1的比例将芯片线路成像到十毫米见方区域。

八零年，尼康公司率先推出日本首台KrF商用步进光刻机NSR-1010G，能够以五倍的分辨率的减少实现1μm制程工艺，生产比GCA更高分辨率的镜头吸引客户。

IBM、II、AMD和HP等美国半导体公司，在公司利益面前果断放弃美国利益，纷纷掉头投入尼康公司的怀抱。

在尼康公司的打压下，GCA的高端市场份额不断减少，在八五年、八六年损失一亿美元，不得不裁员七成；八八年，美国通用信号公司以七千六百万美元收购了陷入财务困境的GCA，为了与尼康竞争，Sematech（美国半导体制造技术战略联盟）资助GCA开发成功KrF光刻机，实现了1μm制程工艺，但尼康光刻机的制程工艺提升到800nm，GCA的高端市场份额没有多大起色。

六六年，中K院109所与沪海光学仪器厂联手协作成功研制中国第一台光刻机、65型接触式光刻机。

八一年，中K院半导体研究所研制成功JK-1半自动接近式光刻机。

八二年，109厂、冰城量具刃具厂和阿城继电器厂共同研制成功KHA75-1型半自动接近式光刻机，在指标上已经完全对标日本的PLA500-F型。